Organic Hard Mask Resin은 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조 재료인 SOC (Spin on carbon)를 제조하는 성능이 우수한 재료 입니다.

이러한 SOC는 gap 을 채우고 평탄화를 강화 하여 내에칭성을 강화 해야 하는 특성을 요구 받으며, 반도체 패턴을 구현하는 과정에서 스핀 코팅 방식에 사용되는 재료로 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현 합니다.